去膠清洗機
設備名稱:槽式濕法去膠機
整機尺寸:約 5200mm(L)× 1900mm(W)×2200mm(H);
操作臺面高度:950±50mm;
適用產品:12inch晶圓(兼容8inch晶圓);
操作系統:PLC 操作系統;
設備具有12英寸(兼容8英寸)晶圓上的光刻膠去除功能;
適用于12英寸和8英寸晶圓上的正性光刻膠、負性光刻膠去除工藝,并對晶圓上的相關金屬線條或焊盤等無損傷,作業方式為槽式模式。
整機尺寸:約 5200mm(L)× 1900mm(W)×2200mm(H);
操作臺面高度:950±50mm;
適用產品:12inch晶圓(兼容8inch晶圓);
操作系統:PLC 操作系統;
設備具有12英寸(兼容8英寸)晶圓上的光刻膠去除功能;
適用于12英寸和8英寸晶圓上的正性光刻膠、負性光刻膠去除工藝,并對晶圓上的相關金屬線條或焊盤等無損傷,作業方式為槽式模式。
產品特點
1.配備多套去膠槽體,能夠滿足多種去膠工藝;
2.具備去膠、水洗及干燥功能;
3.具備連續自動作業能力,適合批量化生產;
4.藥水槽具備藥水循環過濾功能;
5.去膠工藝后對晶圓的基材、金屬導線、焊盤等所有內部結構無損傷
6.破片率 連續生產1萬片,無機臺原因造成的破片及劃傷
2.具備去膠、水洗及干燥功能;
3.具備連續自動作業能力,適合批量化生產;
4.藥水槽具備藥水循環過濾功能;
5.去膠工藝后對晶圓的基材、金屬導線、焊盤等所有內部結構無損傷
6.破片率 連續生產1萬片,無機臺原因造成的破片及劃傷
應用領域
適用于12英寸和8英寸晶圓上的正性光刻膠、負性光刻膠去除工藝
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