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晶圓單片式清洗機
單片式清洗機是由幾個清洗腔體組成，再通過機械手將每一片晶圓送至各個腔體中進行單獨的噴淋式清洗，清洗效果較好，避免了交叉污染和前批次污染后批次，具有極高的工藝環境控制能力與微粒去除能力，有效解決晶圓之間交叉污染的問題。 可定制2/4/6/8/12/16腔室，單腔室處理速度可達到35片/小時，根據客戶需求定制適用于8寸/12寸硅片清洗，內... MORE +
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全自動槽式清洗機
全自動槽式清洗機廣泛應用于集成電路領域、先進封裝領域里的清洗、刻蝕后、光刻膠去除等工藝。與傳統的清洗設備相比自動化程度更高，可用于4寸、6寸、8寸、12寸硅片清洗。還可以選配兆聲波系統、管路防靜電等配置。設備可以提供在異常情況下對硅片的獨特保護（SPS系統）。可提供多個槽體或單片進行化學藥液或純水，結合噴淋、溢流、... MORE +
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去膠清洗機
設備名稱：槽式濕法去膠機
整機尺寸：約 5200mm（L）× 1900mm(W)×2200mm(H)；
操作臺面高度：950±50mm；
適用產品：12inch晶圓（兼容8inch晶圓）；
操作系統：PLC 操作系統；
設備具有12英寸（兼容8英寸）晶圓上的光刻膠去除功能；
適用于12英寸和8英寸晶圓上的正性光刻膠、負性光刻膠去除工藝，并對晶圓上的相關金屬... MORE +
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